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  • 技術(shù)文章

    IKN高剪切分散乳化均質(zhì)設(shè)備的應(yīng)用

    2012-05-08 11:47:03  來源:殷

    均質(zhì)– 分散     
    分散是一相(液體、固體、氣體)進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程。當(dāng)外部能量輸入時,兩種物料重組成為均一相。當(dāng)其中一種或者多種材料的細度達到微米數(shù)量級時,體系可被認為膠狀,我們將它分為三種:懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。
           相比于傳統(tǒng)的混合分散方法,高剪切乳化分散機能輸入更大的能量。
          下面是IKN高剪切乳化分散機的應(yīng)用:
           霜類,膏類和洗劑類:
           霜類,膏類和洗劑類包括很多種類的產(chǎn)品,但是加工方式卻很相似。工藝中一般都會包含增粘劑,色素,香料和活性劑與油相或水相的分散和親和作用。然后,油相和水相乳化、冷卻并包裝成品。對于生產(chǎn)廠商來講,粉體與水怎樣才能進行*大程度上的親和(通常很難分散),并產(chǎn)生乳化作用,保持乳液的穩(wěn)定性,是其中一項較大的挑戰(zhàn)。使用IKN的乳化分散機,就可以幫您解決這些問題。
          


       霜類、膏類和洗劑類
       香料、防腐劑、香精、牙膏
       果汁、濃縮液、果肉和飲料
       墨水和油漆
       濃縮味素
       調(diào)味料、調(diào)味汁
       軟干酪
       果醬
       涂層
       種子和芥末


     
           較難加工的材料可以用EDL剪切泵或者EDC分散機實現(xiàn)連續(xù)或半連續(xù)工藝,在批次式加工方式中,可配合EDS型號機器使用。更難均質(zhì)的材料可以用ER或ERS實現(xiàn)在線或間歇式加工。
        
    懸浮– 濕磨(固體-液體)
    懸浮是指將固體顆粒分散到液體中。在分散過程中,往往需要減小固體顆粒,這就是濕磨。用高剪切乳化機輸入大量能量,可實現(xiàn)我們的目的。以下是一些典型應(yīng)用,IKN混合分散機在這些應(yīng)用中提供了*好的方案:
            炭黑                     水晶
           二氧化鈦              催化劑
           種子                    硫磺
           磨光劑                 灰漿
           粘土                    金屬氧化物
           石墨   
            使用EDC高能分散機或EDL剪切泵,可以在線方式制成懸浮液,用ER來實現(xiàn)批次式或在線式流程。濕磨的應(yīng)用廣泛,但與懸浮相比,它需要更高的能量輸入。為實現(xiàn)高能量輸入,IKN為您提供了EDL2000單級高剪切乳化機, ER2000多級高剪切乳化機,ERS2000超高速乳化機,CM2000膠體磨和CMO2000錐體磨。

     
    乳化(液體-液體)
    乳化是將兩種互不相容的液體均勻分散的過程,如水包油乳液。懸浮液中固體顆粒之所以沒有沉淀,是因為顆粒尺寸小于1微米。如要制成穩(wěn)定的乳液,需要輸入能量以減小液滴尺寸。以下是常見乳液的舉例:
        

       人造黃油                       石蠟
       冰淇淋                          化妝品
       蛋白質(zhì)提取                    礦物油
       膏霜類和洗劑                 殺蟲劑和除草劑
       色拉醬和調(diào)味醬               上光蠟
       微膠囊   
                                                
                                                
     
    很多乳液可以通過使用合適的機器很容易的實現(xiàn),如使用在線式高能量分散機或剪切泵,間歇式EDC。當(dāng)液滴要求小于10微米或要求在亞微米范圍時,我們需要更高的能量輸入來使粒徑達到要求范圍。如果濃度較高,IKN為您提供如下的設(shè)備:EDL2000單級高剪切乳化分散機,ER2000三級高剪切乳化分散機,ERS2000超高速乳化分散機,CM2000膠體磨。 EDC系列可用于間歇式加工。
     
     溶解– 分子/膠質(zhì)
           以下是典型的溶解方面的應(yīng)用,IKN可以提供*好的解決方案:
           染料
           結(jié)晶粉
           粘合劑
           人造橡膠
           觸変劑
           多數(shù)溶解過程都可使用如下的機器,如在線式高能量分散機或剪切泵,間歇式乳化機。
       較難溶解的材料需選用高能量輸入的機器。另外,為了增加能量輸入、減少循環(huán)時間,IKN還提供EDL2000,ER2000,ERS2000,CM2000等在線機器。 

    粉體-液體 混合
       將粉體與液體混合,是非常具有挑戰(zhàn)性的工作。粉體較難被濕化,如果分散不好,會產(chǎn)生魚眼。通常情
       況下,粉體都是從頂部傾倒入罐體,產(chǎn)生大量飛揚粉塵,具有潛在的健康危害。噴射器、攪拌機等其他輔助
       設(shè)備也會因此而降低功效,甚至使阻塞情況更加嚴重,同時還加大了清洗難度。IKN開發(fā)出全新的技術(shù)解決
       方案,可以取代過時工藝。與其他混合機廠商相比,IKN可以提供成套粉體/液體生產(chǎn)線。以下是一些常見
       的典型應(yīng)用,IKN混合機為您提供*好的解決方案。


       淀粉
       氣相二氧化硅
       奶粉
       糖
       纖維素
       卡波姆
                                  二氧化硅
                                  卡波姆

           卡波姆®(卡波姆®是Noveon公司的注冊商標)作為*常用的碳水化合物之一,是化妝品的一種成分,用于
       化妝品的增粘、懸浮、穩(wěn)定和乳化?ú®密度很低,易產(chǎn)生飛揚粉塵,如果沒有給它高能量的攪拌,就很
       容易漂浮在液體表面。溶解在液體中,它又比較容易結(jié)塊或產(chǎn)生魚眼。產(chǎn)品的粘度對pH值十分敏感。因此,需要
      加入pH調(diào)節(jié)劑(高pH物質(zhì)),來調(diào)節(jié)成品粘度。IKN公司提供一系列的高剪切分散機,為化妝品廠家提供解決
      方案。
               IKN高剪切乳化機用于水性卡波姆加工的優(yōu)點:
       1.  更容易與液體混合。IKN提供多樣化的設(shè)計,批次或在線加工方式,適合卡波姆分散。PLD和PLC粉液混合
    機可以將粉體直接加入到液體系統(tǒng),去除粉塵或空氣。
       2.  產(chǎn)品均一。IKN的高剪切乳化機的定/轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)可以保證*終產(chǎn)品無結(jié)塊。
       3.  減少人員使用。IKN工業(yè)設(shè)備與其他廠商設(shè)備不同的是,不會對成分非常敏感。IKN也可以為客戶提供
           粉體喂料的成套解決方案,由控制柜統(tǒng)一控制。
       4.  減少原材料用量。結(jié)塊現(xiàn)象的消除,可以省去過濾工序,減少粉體浪費。同時,IKN定轉(zhuǎn)子分散機保證
           粉體完全濕化,精確調(diào)節(jié)pH值,避免再使用堿液調(diào)節(jié)。
           適合水化卡波姆工藝的IKN混合機
           批次式:MK,EDC,EDS,EDE
           在線式:EDL,ER,ERS,CM,PLD,PLC 
           黃原膠
           色素
           膠質(zhì)
           粘土
           當(dāng)以批次方式加入粉體時,MK攪拌機很快將固體溶解和分散在容器中,如果需要更高的能量輸入,我們
       建議使用EDC分散機。若采用循環(huán)式工藝,PLD水粉混合機能夠迅速地將物料濕化并且分散。PLD 也可以用于
       連續(xù)系統(tǒng),并且處理大量的物料。IKN專利產(chǎn)品PLC水粉混合機是連續(xù)水粉混合工藝的*佳選擇,特別是空氣量
       要求*小化,需要固定的喂料速率,或者高粘度液體的場合。PLC可以選配多種混合分散頭,能夠輸入足夠的
       能量,一次性處理*難加工的物料。PLD是行業(yè)內(nèi)唯一不需要真空吸料的機器,因此,該設(shè)計的另一個目的便
      是減少空氣的介入。


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