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    二維材料研磨分散機(jī)

    產(chǎn)品型號: CMSD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細(xì)信息
    二維材料研磨分散機(jī),二維材料剝離設(shè)備,超高速研磨分散機(jī),線速度66M/S分散機(jī)是是由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果

    二維材料 二維材料是指電子僅可在兩個維度的非納米尺度(1-100nm)上自由運動(平面運動)的材料,如納米薄膜、超晶格、量子阱。二維材料是指電子僅可在兩個維度的非納米尺度(1-100nm)上自由運動(平面運動)的材料,如納米薄膜、超晶格、量子阱。
    納米材料是指材料在某一維、二維或三維方向上的尺度達(dá)到納米尺度。納米材料可以分為零維材料、一維材料、二維材料、三維材料。
    零維材料是指電子無法自由運動的材料,如量子點、納米顆粒與粉末。
    一維材料是指電子僅在一個非納米尺度方向上自由運動(直線運動),如納米線性結(jié)材料、量子線,*具代表的是碳納米管(carbon nanotube)。
    三維材料是指電子可以在三個非納米尺度上自由運動,如納米粉末高壓成型或控制金屬液體結(jié)晶而得到的納米晶粒結(jié)構(gòu)(納米結(jié)構(gòu)材料)。

    石墨烯材料  氮化硼(BN)、二硫化鉬(MoS2)。*近在凝聚態(tài)物理領(lǐng)域有著廣泛的研究。
    二維材料研磨分散機(jī),二維材料剝離設(shè)備,超高速研磨分散機(jī),線速度66M/S分散機(jī)

    粉碎研磨分散的本質(zhì)是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達(dá)到互相包裹,近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是,在某一能量水平上, 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達(dá)到動態(tài)的平衡。
    IKN膠體磨由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果
     
    為了達(dá)到巨大的能量輸入,IKN采用提高定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速的方法。在電機(jī)固定三千轉(zhuǎn)的前提下,我們采用立式的結(jié)構(gòu)通過皮帶加速達(dá)到15000轉(zhuǎn)。這很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高轉(zhuǎn)速下保持穩(wěn)定——軸承的強度夠不夠?機(jī)械密封會不會因為產(chǎn)生大量的熱而損毀泄露?主軸會不會偏振的很厲害,定轉(zhuǎn)子是否會發(fā)生摩擦?這些是IKN的關(guān)注點,也應(yīng)該是廣大客戶在選型時應(yīng)該重視的幾個方面。
     
     
    IKN研磨機(jī)國內(nèi)研磨機(jī)比較:
    轉(zhuǎn)速和剪切力:
    國內(nèi)研磨機(jī),3000/4700 RPM直聯(lián)電機(jī)的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
    線速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
    作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
    IKN研磨機(jī),9000/14000RPM通過皮帶加速
    線速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
    作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
    這是研磨粉碎的重要因素,相當(dāng)于后者是前者的4-5倍
    設(shè)備設(shè)計構(gòu)造:
    國內(nèi)研磨機(jī),臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu),運行時間長,容易造成軸的偏心,運轉(zhuǎn)不正常,需要*的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
    IKN研磨機(jī),立式分體結(jié)構(gòu),運行時間長,不易造成軸的偏心,容易更換,而且只要更換相應(yīng)的皮帶,一般的人員可以操作。
    密封:
    國內(nèi)研磨機(jī),填料密封或骨架密封,單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀
    IKN研磨機(jī),雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降至*低,可24小時不停運轉(zhuǎn),特殊德國PDFE軸封,可以運行10000小時,可選擇德國高品質(zhì)機(jī)械密封,在一般的情況下,我們的機(jī)械密封可以*大承受16bar 壓力,根據(jù)機(jī)械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達(dá)到12-13 bar .
    產(chǎn)品效果:
    國內(nèi)研磨機(jī),粒徑細(xì)度有限,10微米以下較困難,重復(fù)性差,產(chǎn)品粒徑分布不均勻
    IKN高剪切研磨機(jī) 可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工,粒徑分布均勻,納米級分散乳化粉碎
     
    IKN管線式粉碎機(jī)國內(nèi)粉碎機(jī)比較:
    轉(zhuǎn)速和剪切力:
    國內(nèi)粉碎機(jī),3000/4700 RPM直聯(lián)電機(jī)的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
    線速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
    作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
    IKN高剪切粉碎機(jī),9000/14000RPM通過皮帶加速
    線速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
    作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
    這是研磨粉碎的重要因素,相當(dāng)于后者是前者的4-5倍
    設(shè)備設(shè)計構(gòu)造:
    國內(nèi)粉碎機(jī),臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu),運行時間長,容易造成軸的偏心,運轉(zhuǎn)不正常,需要*的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
    IKN粉碎機(jī),立式分體結(jié)構(gòu),運行時間長,不易造成軸的偏心,容易更換,而且只要更換相應(yīng)的皮帶,一般的人員可以操作。
    密封:
    國內(nèi)粉碎機(jī),填料密封或骨架密封,單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀
    IKN粉碎機(jī),雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降至*低,可24小時不停運轉(zhuǎn),特殊德國PDFE軸封,可以運行10000小時,可選擇德國高品質(zhì)機(jī)械密封,在一般的情況下,我們的機(jī)械密封可以*大承受16bar 壓力,根據(jù)機(jī)械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達(dá)到12-13 bar .
    產(chǎn)品效果:
    國內(nèi)粉碎機(jī),粒徑細(xì)度有限,10微米以下較困難,重復(fù)性差,產(chǎn)品粒徑分布不均勻
    IKN高剪切粉碎機(jī),可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工,粒徑分布均勻,納米級分散乳化粉碎
     
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    IKN納米膠體磨與國內(nèi)膠體磨的性能比較:
    • 轉(zhuǎn)速和剪切速率:IKN納米膠體磨,可選擇德國機(jī)械密封,轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國內(nèi)膠體磨,可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn),大約在14293-215440S-1通過轉(zhuǎn)速比較可知,這是乳粉碎研磨的重要因素,相當(dāng)于前者是后者的2-3倍
     
    • 膠體磨頭和間距:IKN納米膠體磨,可以選擇六種不同的模塊頭,實現(xiàn)多種功能,如三級乳化模塊,超高速模塊,CM膠體模塊,CMO膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊。間距可調(diào),可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工國內(nèi)膠體磨,只有一種模塊頭,粒徑細(xì)度有限,100微米以下較困難,重復(fù)性差
    • 機(jī)械密封:IKN納米膠體磨,雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降至*低,可24小時不停運轉(zhuǎn)國內(nèi)膠體磨,單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀
     
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    定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
    齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。
    ③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
    IKN管線式高剪切膠體磨與臥式膠體磨比較:
    轉(zhuǎn)速和剪切力:
    國內(nèi)膠體磨,3000/4700 RPM直聯(lián)電機(jī)的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
    線速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
    作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
    IKN高剪切膠體磨9000/14000RPM通過皮帶加速
    線速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
    作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
    這是研磨粉碎的重要因素,相當(dāng)于后者是前者的4-5倍
    設(shè)備設(shè)計構(gòu)造:
    國內(nèi)膠體磨,臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu),運行時間長,容易造成軸的偏心,運轉(zhuǎn)不正常,需要*的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
    IKN高剪切膠體磨,立式分體結(jié)構(gòu),運行時間長,不易造成軸的偏心,容易更換,而且只要更換相應(yīng)的皮帶,一般的人員可以操作。
    密封:
    國內(nèi)膠體磨,填料密封或骨架密封,單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀
    IKN膠體磨,雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降至*低,可24小時不停運轉(zhuǎn),特殊德國PDFE軸封,可以運行10000小時,可選擇德國高品質(zhì)機(jī)械密封,在一般的情況下,我們的機(jī)械密封可以*大承受16bar 壓力,根據(jù)機(jī)械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達(dá)到12-13 bar .
    產(chǎn)品效果:
    國內(nèi)膠體磨,粒徑細(xì)度有限,10微米以下較困難,重復(fù)性差,產(chǎn)品粒徑分布不均勻
    IKN高剪切膠體磨,可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工,粒徑分布均勻,納米級分散乳化粉碎


    二維材料研磨分散機(jī),二維材料剝離設(shè)備,超高速研磨分散機(jī),線速度66M/S分散機(jī)
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