ITO納米高速分散機(jī)  ,ITO納米分散機(jī),氧化銦納米分散機(jī) 氧化錫納米分散機(jī)是的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是*重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，依肯公司在ER2000系列的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)出ERS3000超高速分散機(jī)。其剪切速率可以超過(guò)100.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度極高,無(wú)需其他輔助分散設(shè)備。


ITO粉末為氧化銦和氧化錫的混合物，是一種新型的特殊功能陶瓷材料，通常是用電子束蒸發(fā)、物理氣相沉積、或者一些濺射沉積技術(shù)的方法沉積到表面，具有對(duì)可見(jiàn)光透明和導(dǎo)電的良好特性。
在分散或研磨納米粉體的漿料時(shí)，若不添加適當(dāng)?shù)谋砻娓馁|(zhì)劑，單靠研磨機(jī)的機(jī)械力量來(lái)做分散研磨，一般只能分散研磨到300 ~ 800 nm就無(wú)法再降低粒徑了，其原因是當(dāng)粒徑小于300 nm時(shí)，粉體的比表面積急速上升且范德華力效應(yīng)加劇，此時(shí)粉體處于非常不穩(wěn)定且容易再凝聚的狀態(tài)，即使聚集的粉體被磨球打開(kāi)來(lái)了，也容易再凝聚，除非添加適當(dāng)?shù)谋砻娓馁|(zhì)劑，才可能繼續(xù)把粒徑下降到一次粒徑的大小。
◆化學(xué)界面改質(zhì)劑的設(shè)計(jì)
一般處理漿料表面的方法，由復(fù)雜交互的作用力，如靜電排斥力、立體排斥力及體積排除作用力等力形成固體或液體表面的穩(wěn)定狀態(tài)，其目的不外乎是避免粉體再凝聚的產(chǎn)生，其中*簡(jiǎn)單的方法是調(diào)整PH值，使納米粉體表面帶電荷，粉體與粉體間產(chǎn)生排斥力，然而，納米粉體因受限于*終產(chǎn)品應(yīng)用及配方的限制，適用此方法的應(yīng)用并不多；第二種常用的方法是依靠立體排斥作用力形成固體與固體，固體與液體間的穩(wěn)定狀態(tài)，此方法*常選用高分子量的高分子或單體作分散劑，當(dāng)漿料的粒徑要求為微米或亞納米時(shí)，此方法效果相當(dāng)好；但是分散或研磨漿料的粒徑要求小于100 nm時(shí)，如果仍選用高分子量的高分子或單體作為分散劑，當(dāng)粉體被納米化時(shí)，漿料內(nèi)的大部分體積已被高分子量的高分子或單體所形成的障礙物所占據(jù)，此時(shí)漿料容易遇到下列的問(wèn)題：
● 固成分大幅降低，一般為35 % wt以下。
● 漿料的粘度因而提高，不利于研磨機(jī)內(nèi)小磨球的運(yùn)動(dòng)，導(dǎo)致*后的粒徑細(xì)度降不下來(lái)。
● 粉體容易產(chǎn)生再凝聚的現(xiàn)象，導(dǎo)致納米現(xiàn)象無(wú)法產(chǎn)生，為了避免上述問(wèn)題的產(chǎn)生，本文所介紹的化學(xué)機(jī)械工藝法，將選用較低分子量的功能劑來(lái)當(dāng)表面改質(zhì)劑。根據(jù)溶液化學(xué)的概念，較小分子量的化學(xué)鍵所形成的功能劑，會(huì)比較容易被接到納米粉體的表面上，（如圖4范例所示），所選用的界面改質(zhì)劑是低分子量的，且包含有機(jī)酸官能團(tuán)。
 
原則上，所選用的界面改質(zhì)劑同時(shí)具有兩個(gè)官能團(tuán)：一個(gè)官能團(tuán)被設(shè)計(jì)接到納米粉體表面，使納米粉體表面產(chǎn)生一個(gè)穩(wěn)定相，以避免粉體再凝聚的產(chǎn)生；另一個(gè)官能團(tuán)的設(shè)計(jì)，要根據(jù)納米粉體所添加的界面（Matrix）而定，以避免不兼容現(xiàn)象的發(fā)生。因?yàn)榻缑娓馁|(zhì)工藝所采用的工具為濕法分散納米研磨設(shè)備，所以選用的界面改質(zhì)劑必須能夠與使用的溶劑兼容。盡管所選用的界面改質(zhì)劑的分子量很小，但仍可在納米粒子表面產(chǎn)生2 ~ 5 nm厚度的薄膜，足夠產(chǎn)生一個(gè)立體障礙并支撐納米粒子的穩(wěn)定性，相信根據(jù)這些原理量身打造的界面改質(zhì)劑，可以滿(mǎn)足下列要求：
● 固體成分可以大大提高到35 ~ 45%以上。
● 粒徑可以降到粉體一次粒徑大�。ɡ�如10 nm左右）。
● 漿料的粘滯性不再受粒子粒徑下降的影響而急速上升。
● 粉體將不易產(chǎn)生再凝聚現(xiàn)象，即使添加到后段工藝仍為納米粒子。

ITO納米高速分散機(jī)  ,ITO納米分散機(jī),氧化銦納米分散機(jī) 氧化錫納米分散機(jī)

KN管線式高剪切乳化機(jī)（分散機(jī)、均質(zhì)機(jī)）與臥式乳化機(jī)比較：
轉(zhuǎn)速和剪切力：
國(guó)內(nèi)乳化機(jī)，3000/4700 RPM直聯(lián)電機(jī)的轉(zhuǎn)速?zèng)Q定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切乳化機(jī)，9000/14000RPM通過(guò)皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是乳化和均質(zhì)的重要因素，相當(dāng)于后者是前者的4-5倍
設(shè)備設(shè)計(jì)構(gòu)造：
國(guó)內(nèi)乳化機(jī)，臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu)，運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)，容易造成軸的偏心，運(yùn)轉(zhuǎn)不正常，需要*的人員拆開(kāi)內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN高剪切乳化機(jī)，立式分體結(jié)構(gòu)，運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應(yīng)的皮帶，一般的人員可以操作。
密封：
國(guó)內(nèi)乳化機(jī)，填料密封或骨架密封，單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀
IKN高剪切乳化機(jī)，雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)，特殊德國(guó)PDFE軸封，可以運(yùn)行10000小時(shí)，可選擇德國(guó)高品質(zhì)機(jī)械密封，在一般的情況下，我們的機(jī)械密封可以*大承受16bar 壓力，根據(jù)機(jī)械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達(dá)到12-13 bar .
產(chǎn)品效果：
國(guó)內(nèi)乳化機(jī)，粒徑細(xì)度有限，10微米以下較困難，重復(fù)性差，產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切乳化機(jī)，可實(shí)現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級(jí)分散乳化
 
 
當(dāng)用我們的設(shè)備好處是什么？效果好（研磨效果、均質(zhì)效果、分散效果、乳化效果……），速度快，效率高。每一臺(tái)設(shè)備都具有多功能改裝，根據(jù)不同的要求更換不同的模塊。還有什么？？？那就是能耗低，據(jù)用過(guò)依肯的設(shè)備客戶(hù)反應(yīng)，就電費(fèi)就能省下不少。如何去選擇一臺(tái)合適的設(shè)備，一定會(huì)做一個(gè)明智的選擇！

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