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    液相剝離法石墨烯研磨分散機

    產(chǎn)品型號: CMSD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細(xì)信息
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    是以EG為原料, 利用強極性有機溶劑乙腈與石墨烯片的雙偶極誘導(dǎo)作用(dipoleinduceddipole interaction)來剝離、分散石墨, 使石墨烯的總產(chǎn)率提高到10%~12%。同時, 為增加石墨烯溶液的穩(wěn)定性, 人們往往在液相剝離石墨片層過程中加入一些穩(wěn)定劑以防止石墨烯因片層間的范德華力而重新聚集。

    石磨烯目前石墨烯的主要制備方法包括物理方法和化學(xué)方法兩種。物理方法通常是以廉價的石墨或膨脹石墨為原料, 通過微機械剝離法、液相或氣相直接剝離法來制備單層或多層石墨烯。而化學(xué)方法主要有化學(xué)氣相沉積(CVD)、外延生長法、氧化還原石墨法等,各種方法都具有一定的優(yōu)缺點,高效大規(guī)模制備石墨烯的生產(chǎn)方式仍在探索之中

    液相剝離法通常直接把石墨或膨脹石墨(EG)(一般通過快速升溫至1000℃以上把表面含氧基團除去來獲。┘釉谀撤N有機溶劑或水中, 借助超聲波、加熱或氣流的作用制備一定濃度的單層或多層石墨烯溶液。Coleman等參照液相剝離碳納米管的方式將石墨分散在N-甲基吡咯烷酮(NMP)中, 超聲1h后單層石墨烯的產(chǎn)率為1%[16], 而長時間的超聲(462h)可使石墨烯濃度高達(dá)1.2mg/mL, 單層石墨烯的產(chǎn)率也提高到4%[17]。 他們的研究表明, 當(dāng)溶劑的表面能與石墨烯相匹配時, 溶劑與石墨烯之間的相互作用可以平衡剝離石墨烯所需的能量, 而能夠較好地剝離石墨烯的溶劑表面張力范圍為40~50mJ/m²;Hamilton 等[18]把石墨直接分散在鄰二氯苯(表面張力: 36.6mJ/m²)中, 超聲、離心后制備了大塊狀(100~500nm)的單層石墨烯;Drzal 等[19]利用液−液界面自組裝在三氯甲烷中制備了表面高度疏水、高電導(dǎo)率和透明度較好的單層石墨烯。為提高石墨烯的產(chǎn)率, *近Hou 等發(fā)展了一種稱為溶劑熱插層(solvothermal-asssisted exfoliation)制備石墨烯的新方法(圖2-5),該法是以EG為原料, 利用強極性有機溶劑乙腈與石墨烯片的雙偶極誘導(dǎo)作用(dipoleinduceddipole interaction)來剝離、分散石墨, 使石墨烯的總產(chǎn)率提高到10%~12%。同時, 為增加石墨烯溶液的穩(wěn)定性, 人們往往在液相剝離石墨片層過程中加入一些穩(wěn)定劑以防止石墨烯因片層間的范德華力而重新聚集。

    液相剝離法石墨烯研磨分散機

    是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMSD 2000/4

    300

    14,000

    41

    4

    DN25/DN15

    CMSD 2000/5

    1000

    10,500

    41

    11

    DN40/DN32

    CMSD 2000/10

    4000

    7,200

    41

    22

    DN80/DN65

    CMSD 2000/20

    10000

    4,900

    41

    45

    DN80/DN65

    CMSD 2000/30

    20000

    2,850

    41

    90

    DN150/DN125

    CMSD2000/50

    60000

    1,100

    41

    160

    DN200/DN150

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。

    液相剝離法石墨烯研磨分散機   我們在  山東  寧波   青島 等等有大量客戶  

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