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催化劑粉碎機  ，催化劑研磨設備是 透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

絕大多數(shù)催化劑有三類可以區(qū)分的組分：活性組分、載體、助催化劑。

活性組分

活性組分是催化劑的主要成分，有時由一種物質(zhì)組成，有時由多種物質(zhì)組成。
活性組分分類：

類別	導電性（反應類型）	催化反應舉例
金屬	導電體（氧化反應，還原反應）	選擇性加氫；選擇性氫解；選擇性氧化
過渡金屬氧化物、硫化物	半導體（氧化還原）	選擇性加氫、脫氫；氫解；氧化
非過渡元素氧化物	絕緣體（碳離子反應，酸堿反應）	聚合、異構；裂化；脫水

載體

載體是催化活性組分的分散劑、黏合劑或支撐體，是負載活性組分的骨架。將活性組分、助催化劑組分負載于載體上所制得的催化劑成為負載型催化劑。
常用載體的類型：低比表面積的有：剛玉、碳化硅、浮石、硅藻土、石棉、耐火磚；高比表面積的有：氧化鋁、SiO2-Al2O3、鐵礬土、白土、氧化鎂、硅膠、活性炭。

助催化劑

助催化劑是加入到催化劑中的少量物質(zhì)，是催化劑的輔助成分，其本身沒有活性或者活性很小，但是它們加入到催化劑中后，可以改變催化劑的化學組成、化學結構、離子價態(tài)、酸堿性、晶格結構、表面結構、孔結構、分散狀態(tài)、機械強度等，從而提高催化劑的活性、選擇性、穩(wěn)定性和壽命

催化劑 催化劑在化工行業(yè)用于催化和加速化學反應。催化劑的造價通常比較高，用量比較少，由無機物衍生而成（如重金屬）。催化劑用來為化學反應提供適合的場所，或者成為其中的一種反應物，以促進反應。在這兩種情況下，催化劑的活性都是由催化劑與反應物質(zhì)的接觸狀況（有效分散）決定的，不斷擴充催化劑表面積（防止結塊，縮小粒徑等）可增強催化劑活性。實踐證明，IKN工業(yè)設備可以保證催化劑活性得到*大程度的發(fā)揮。增加收益。IKN分散頭的特殊設計確保完全分散，使催化劑與反應物完全接觸。更值得一提的是，定轉(zhuǎn)子的高剪切作用（詳見技術信息）保證消除結塊，恢復原有接觸面，獲得*佳反應收益率。

縮短工藝時間。由IKN工業(yè)設備在高速率下產(chǎn)生的高剪切作用，保證催化劑和反應物迅速的分散為一相，并加速反應。IKN工業(yè)設備輸入的高能量也能幫助加速反應轉(zhuǎn)化率。

 

催化劑高速膠體磨的粉碎效果 

影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點

 

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

3 膠體磨頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4  物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

 

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                            g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

催化劑高速膠體磨  

 

流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	3000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	8000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	20000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	40000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	120000	1,100	23	110	DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產(chǎn)品的要求。

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