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軟膠囊高剪切膠體磨,軟膠囊進(jìn)口膠體磨

產(chǎn)品型號(hào)：

CMD2000

品牌：

IKN

≧1 臺(tái)
￥168000.00

所在地：

上海松江區(qū)

更新日期：

2024-10-21

詳細(xì)信息

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軟膠囊生產(chǎn)設(shè)備，軟膠囊高剪切膠體磨，軟膠囊進(jìn)口膠體磨，軟膠囊高剪切乳化機(jī)，軟膠囊高剪切均質(zhì)機(jī)，軟膠囊內(nèi)容物膠體磨，軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機(jī)，膠囊膠體磨，改良型膠體磨，醫(yī)藥乳液膠體磨，醫(yī)藥混懸液膠體磨，進(jìn)口膠體磨，進(jìn)口高剪切膠體磨，進(jìn)口膠囊膠體磨，多功能高剪切膠體磨，醫(yī)藥混懸液多功能膠體磨咨詢熱線：（微信QQ同號(hào)）

此款醫(yī)藥改良型膠體磨不僅轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，并且在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上加入了一組分散盤，先研磨后分散，物料粒徑更細(xì)，更穩(wěn)定！
軟膠囊制劑多用于非水溶性、對(duì)光敏感、遇濕熱不穩(wěn)定、易氧化額揮發(fā)的藥物。它密封嚴(yán)密、用量精確、生物利用度高，藥物的穩(wěn)定性也得到提升，此外還有掩蓋不良嗅味的作用。實(shí)驗(yàn)證明，口服制劑的生物利用度，以內(nèi)容物為溶液的軟膠囊，混懸液次之，再次為含顆粒的硬膠囊，***差為片劑。

近年來，超微粉碎技術(shù)逐漸應(yīng)用到軟膠囊領(lǐng)域，通過研究發(fā)現(xiàn)，藥材經(jīng)過超微化粉碎后，粉末粒徑大小分布均勻，球性度和均質(zhì)度明顯改善，這些細(xì)粉較易混懸在水或者溶劑以及植物油當(dāng)中，質(zhì)量較為穩(wěn)定。另外隨著軟膠囊行業(yè)的發(fā)展，對(duì)于膠囊的內(nèi)容物的處理，出現(xiàn)的大量的設(shè)備，如：膠體磨、均質(zhì)機(jī)、分散機(jī)等。這些設(shè)備通過對(duì)內(nèi)容物的剪切，從內(nèi)容物粒徑更加細(xì)化，粉末分散更加均勻。而上海依肯應(yīng)對(duì)這種情況，研發(fā)出了的設(shè)備，改良性膠體磨，該膠體磨結(jié)合了高剪切膠體磨和高剪切分散機(jī)的特點(diǎn)，將二者一體，形成的設(shè)備，我們也將它定義為“研磨分散機(jī)”。

IKN改良型膠體磨，IKN研磨分散機(jī)，對(duì)于軟膠囊的生產(chǎn)有著巨大的優(yōu)勢(shì)，對(duì)于軟膠囊內(nèi)容物的處理十分有效，無論內(nèi)容物是乳液還是混懸液，都可以將物料充分的細(xì)化，提高物料的穩(wěn)定性和藥效。改良型膠體磨的作用力體現(xiàn)在它的剪切力和作用刀頭，IKN改良型膠體磨，研磨分散機(jī)，有一級(jí)膠體磨頭和一級(jí)分散盤，對(duì)物料先研磨后分散機(jī)，再配合14000rpm的轉(zhuǎn)速，乳液粒徑一般可細(xì)化至1-2微米，混懸液一般可細(xì)化至3-5微米，當(dāng)然這也要根據(jù)具體的物料性質(zhì)和工藝來定。

CMD2000系列改良型膠體磨，研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變更為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

1  線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④   在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMD2000系列改良型膠體磨，研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由膠體磨，分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：
①   線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④   在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機(jī)	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	1000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	3000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	8000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	20000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	60000	1,100	23	110	DN200/DN150
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到**大允許量的10%。

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