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德國IKN解決團聚抱團沉淀混懸液漿料用研磨分散機CMSD2000
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段工研磨分散機是一款集研磨和分散一體化的設備,是一項新的技術革新。研磨分散機是將膠體磨(錐體磨)+高剪切分散機一體化的設備,先研磨后分散,物料研磨后又瞬間進行分散,避免了物料的二次團聚。
膠體磨和分散機的一體化設計相對于膠體磨和分散機的串聯(lián)而言更具優(yōu)勢。串聯(lián)的話存在時間差,當物料通過膠體磨之后,磨細后物料會出現(xiàn)抱團的現(xiàn)象,再經(jīng)過分散機分散,效果不是很好。而CMSD超細研磨分散機的話,物料磨細后,瞬間又通過分散工作組,進行分散,在物料還未抱團之前,就進行了分散,一個瞬間作用,效果會好很多。
當所處理的物料要達到非常細的程度時候,對于設備的要求就會非常的高。而從設備角度來考慮的話,能夠達到超細的效果,要具備以下條件:
1、超強的剪切力,CMSD2000系列研磨分散機轉(zhuǎn)速高達14000rpm,線速度為44m/s,是普通設備的4-5倍。
2、高精密度的定轉(zhuǎn)子,超細研磨分散機的定轉(zhuǎn)子分為兩級,一級為膠體磨磨頭,采用三級錯齒結(jié)構(gòu),磨頭的溝槽的深度角度都符合流體力學的設計。第二級是分散頭,IKN分散頭有六種不同的規(guī)格,從粗到細,越來越密,分散效果佳。
3、機械密封,超細的效果取決于高的轉(zhuǎn)速,而轉(zhuǎn)速越高機械密封的發(fā)熱量就會越大,設備的機械密封是否能夠耐的住這么高的轉(zhuǎn)速,國內(nèi)大多數(shù)廠家的機械密封是無法做到的,而 IKN研磨分散機采用德國博格曼雙端面機械密封,并配有機封冷卻系統(tǒng),可以承受超高的轉(zhuǎn)速,穩(wěn)定性高。
IKN研磨分散機透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
CMD2000模塊化設計主要由兩層分散頭構(gòu)成,工作時,物料通過投料口進入分散腔,首先到達層分散頭進行處理,由于馬達帶動轉(zhuǎn)子齒列高速運轉(zhuǎn),產(chǎn)生渦流和離心力效應使得物料軸向吸入分散頭,然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用,之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強力剪切間隙中物料被強烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切,接著流出的物料進入第二層分散頭腔體,對處理過的物料再次進行剪切(原理同上),從而確;旌戏稚@得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒,生成的混合液穩(wěn)定性更好,滿足生產(chǎn)時對于粒徑的要求。
CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。
CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
研磨分散機的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
從設備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)
CMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號
流量
L/H
轉(zhuǎn)速
rpm
線速度
m/s
功率
kw
入/出口連接
DN
CMD2000/4
300
9000
23
2.2
DN25/DN15
CMD2000/5
1000
6000
23
7.5
DN40/DN32
CMD2000/10
2000
4200
23
22
DN80/DN65
CMD2000/20
5000
2850
23
37
DN80/DN65
CMD2000/30
8000
1420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
15000
1100
23
110
DN200/DN150
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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