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    德國(guó)IKN碳納米管鋰電漿料高速大小型分散機(jī)設(shè)備CMSD2000

    產(chǎn)品型號(hào): CMSD2000
    品  牌: 德國(guó)IKN
    • ≧1 臺(tái)
      ¥118900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細(xì)信息

    碳納米管鋰電漿料分散設(shè)備,碳納米管導(dǎo)電漿料分散機(jī),高轉(zhuǎn)速分散機(jī)

     

    碳納米管是一種新型的碳素材料,由呈六邊形排列的碳原子構(gòu)成數(shù)層至數(shù)十層的同軸圓管,層與層之間保持固定的距離,約0.34nm,直徑一般為2-20納米。

      

    碳納米管以其優(yōu)異的性能,在塑料改性,微型電路芯片,靜電屏蔽,鋰電池電極等領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用。

     

    碳納米管導(dǎo)電漿料優(yōu)缺點(diǎn)

    (1) 碳納米管具有良好的電子導(dǎo)電性,纖維狀結(jié)構(gòu)能夠在電極活性材料中形成連續(xù)的導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò);

    (2) 添加碳納米管后極片有較高的韌性, 能改善充放電過(guò)程中材料體積變化而引起的剝落, 提高循環(huán)壽命;

    (3) 碳納米管可大幅度提高電解液在電極材料中的滲透能力;

    (4) 碳納米管的主要缺點(diǎn)在于不易分散,與液體借出后容易團(tuán)聚,粉末還滿天飛揚(yáng)。

     

    碳納米管分散難點(diǎn)

    碳納米管導(dǎo)電漿料分散機(jī),碳納米管分散,其實(shí)也就是所謂的納米級(jí)物料的分散,在做納米粉體分散或研磨時(shí),因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過(guò)程中,范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)姆稚⒃O(shè)備來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散的關(guān)鍵。

    想要解決這些難點(diǎn)并不困難,只要充分的將碳納米管粉料與介質(zhì)(水、NMP、PVDF)等充分分散均勻即可。IKN研磨分散均質(zhì)機(jī)是針對(duì)易團(tuán)聚且分散效果不好的物料研發(fā)的,其設(shè)計(jì)上是采用膠體磨與分散機(jī)結(jié)合設(shè)計(jì)而成,也是膠體磨的升級(jí)版本,上面一層采用錐體磨設(shè)計(jì),使得物料能夠在定轉(zhuǎn)子間距小的間隙(間隙可調(diào))間進(jìn)行研磨,研磨后的物料瞬間進(jìn)入第二層分散均質(zhì)層進(jìn)行剪切分散均質(zhì)。除此之外還具有以下特點(diǎn):

    1、設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)速度高達(dá)14000轉(zhuǎn),是目前普通設(shè)備的4-5倍,高效細(xì)化分散研磨物料

    2、定轉(zhuǎn)子之間的間隙是可調(diào)的,研磨縫隙調(diào)節(jié)可以改變適用于特定工藝

    3、膠體磨頭設(shè)有三道磨碎區(qū),一層為粗磨碎區(qū),二層細(xì)磨碎區(qū),三層為超微磨碎區(qū),通過(guò)調(diào)整定、轉(zhuǎn)子的間隙,能有效地達(dá)到所需的超微粉碎效果(也可循環(huán)加工)。

    4、機(jī)身腔體采用三層夾套設(shè)計(jì)可以冷卻也可以加熱

    5、采用德國(guó)雙端面機(jī)械密封,在保證有冷卻水的情況下,可以24小時(shí)連續(xù)不間斷工作

    6、從實(shí)驗(yàn)室設(shè)備平穩(wěn)過(guò)渡到中試型實(shí)驗(yàn)以及后期的工業(yè)化放大實(shí)驗(yàn),無(wú)需重新調(diào)整實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),降低了設(shè)備投資的風(fēng)險(xiǎn)

     

    從設(shè)備角度來(lái)分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):

    1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

    2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

    3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

    4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

    5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

     

    線速度的計(jì)算:

    剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

    剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

    由上可知,剪切速率取決于以下因素:

    轉(zhuǎn)子的線速率

    在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
    IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

    速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

     所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

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