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    德國IKN管線式二氧化鈦研磨用改進(jìn)型分散機CMSD2000

    產(chǎn)品型號: CMSD2000
    品  牌: 德國IKN
    • ≧1 臺
      ¥450890.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細(xì)信息

    管線式二氧化鈦研磨用改進(jìn)型分散機是高效,運轉(zhuǎn)平穩(wěn),在線式清潔,納米級研磨分散處理zhuan家。熔體直紡滌綸長絲生產(chǎn)過程中,一般聚酯裝置采用的是中紡院的五釜流程,兩個酯化釜三個縮聚釜:第yi酯化反應(yīng)釜、第二酯化反應(yīng)釜、第yi預(yù)縮聚反應(yīng)釜、第二預(yù)縮聚反應(yīng)釜、終縮聚反應(yīng)釜。在生生產(chǎn)消光滌綸長絲產(chǎn)品時,通過添加二氧化鈦達(dá)到消光效果。

    然而化纖用二氧化鈦雖然粒徑小,分散性好,但在貯存、運輸過程中又會絮凝在一起, 會造成消光效果降低,甚至影響化纖的其他物性指標(biāo)。因此化纖廠在消光前一般都要再次研磨、分散,除去粗粒子后才能使用。各廠的前處理方法都不一樣,有的很簡單,有的操作很嚴(yán)格,甚至還添加分散劑和保護(hù)膠體。分散設(shè)備主要有:均質(zhì)類,主要靠攪拌和混合來分散;介凝類,利用溶液的粘度由剪切力來介凝分散;砂磨類,利用機械撞擊來砂磨分散。

    一般未經(jīng)后處理、干磨級的二氧化鈦zui好通過研磨機來分散,研磨機將顆粒較大的二氧化鈦進(jìn)行研磨,將研磨合格的物料進(jìn)入離心機進(jìn)行離心分離處理。

     

    但傳統(tǒng)研磨機在使用過程中存在以下缺陷和不足:

    1. 傳統(tǒng)研磨機出口過濾器形式為瓷片濾板,由200片陶瓷濾片串聯(lián)在絲桿上組成,過濾效果差;

    2. 研磨單批物料時,需反復(fù)拆洗數(shù)次,經(jīng)常拆裝清洗易造成瓷片碎裂,使用的陶瓷濾板為進(jìn)口備件,價格昂貴;

    3.傳統(tǒng) 研磨機內(nèi)部研磨盤使用周期短為3個月,出現(xiàn)研磨機研磨介質(zhì)研磨珠誤入系統(tǒng),造成管道堵塞相關(guān)配套設(shè)備損壞;

    4. 二氧化鈦研磨配制是化纖生產(chǎn)中重要的輔劑系統(tǒng),如出現(xiàn)異常直接影響產(chǎn)品質(zhì)量,造成原輔料的浪費,增加生產(chǎn)成本;

    5. 傳統(tǒng)研磨機為聚酯裝置關(guān)鍵設(shè)備,頻繁維修,不但增加成本,對裝置平穩(wěn)生產(chǎn)造成影響。

     

    二氧化鈦改進(jìn)型研磨機研磨分散機是通過轉(zhuǎn)子高速平穩(wěn)的旋轉(zhuǎn),形成高頻、強烈的圓周切線速度、角向速度等綜合動能,使得物料在定子的作用下,定、轉(zhuǎn)子合理狹窄的間隙中形成強烈、往復(fù)的液力剪切、摩擦、離心擠壓、液流碰撞等綜合效應(yīng),物料在容器中循環(huán)往復(fù)以上工作過程,zui終獲得納米二氧化鈦漿料。

    設(shè)備結(jié)構(gòu):
    第yi級由具有精細(xì)度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。


    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

     

     

    特點:

    可以處理量大,運轉(zhuǎn)更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,無死角,物料全部通過分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。

     

    研磨分散設(shè)備技術(shù)革新:

       
    IKN研磨分散機是膠體磨和分散機的一體化設(shè)計,相對于膠體磨和分散機的串聯(lián)而言更具優(yōu)勢。膠體磨與分散機串聯(lián)的話存在時間差,當(dāng)物料通過膠體磨之后,磨細(xì)后物料會出現(xiàn)抱團的現(xiàn)象,再經(jīng)過分散機分散,效果不是很好。而CMSD超細(xì)研磨分散機的話,物料磨細(xì)后,瞬間又通過分散工作組,進(jìn)行分散,在物料還未抱團之前,就進(jìn)行了分散,一個瞬間作用,效果會好很多。

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