CCM技術制備質(zhì)子交換膜燃料電池PEMFC漿料研磨分散機，提供催化劑漿料、二離型膜、質(zhì)子交換膜。離型膜選用PET離型膜，PET離型膜的厚度選為0.05mm。

催化劑漿料的制備方法包括以下步驟：
提供Pt/C催化劑、Nafion溶液、水、溶劑及分散劑，Pt/C催化劑中的Pt質(zhì)量含量為40％，Nafion溶液中的Nafion質(zhì)量含量為5％，分散劑為異丙醇，溶劑為甘油。將Nafion溶液與Pt/C催化劑按質(zhì)量比1：3混合；Nafion溶液與Pt/C催化劑混合后，攪拌均勻，得到溶液Ⅰ。將Nafion溶液、異丙醇、甘油按質(zhì)量比1:2.5:7混合，Nafion溶液、異丙醇、甘油混合后用上海依肯機械設備段工 推薦的研磨分散機，高速攪拌研磨及分散均勻，不再團聚大顆粒，得到溶液Ⅱ。將溶液Ⅰ緩慢加入溶液Ⅱ中得到溶液Ⅲ，溶液Ⅰ與溶液Ⅱ的體積比為1:1至溶液混合均勻，得到粘度適合涂布的催化劑漿料。

研磨分散機工作原理：研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的gao速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被you xiao地乳化、分散和粉碎，da到物料超細粉碎及乳化的效果。

研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第er級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，te別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征dou能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出#終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMSD 2000/4	300	14,000	41	4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10,500	41	11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7,200	41	30	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4,900	41	45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2,850	41	90	DN150/DN125
CMSD2000/50	60000	1,100	41	160	DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到#大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和#終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，bi須提供準確的參數(shù)，以便選型和定制。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術改動，定制而不符，正確的參數(shù)yi提供的實物為準。
5 本系列機型具有短程送料能力，無自吸功能，須選用高位進料；物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。