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    德國IKN生產(chǎn)制備研磨聚多巴胺包覆石墨烯納米復(fù)合材料高速大小型分散機CMSD2000

    產(chǎn)品型號: CMSD2000
    品  牌: 德國IKN
    • ≧1 臺
      ¥118900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-23
    詳細信息

    生產(chǎn)制備研磨聚多巴胺包覆石墨烯納米復(fù)合材料高速大小型分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。

    同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤?筛鶕(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

    具體改性步驟:

    (1)將石墨原料添加到氧化劑高錳酸鉀和助氧化劑雙氧水中,在98%濃硫酸中控制溫度0至98℃下反應(yīng)6至24h,經(jīng)去離子水反復(fù)離心洗滌至中性,得到分散在水中的氧化石墨烯;(2)取1重量份步驟(1)所得到氧化石墨烯,將其濃度配制成0.05‑0.2 wt%;(3)向步驟(2)所得到的分散液中加入改性劑多巴胺鹽酸鹽,改性劑濃度配制成0.05‑0.4 wt%;(4)向步驟(3)所得混合體系中滴入氨水或pH緩沖液,調(diào)節(jié)pH值為堿性,攪拌使多巴胺聚合;(5)將步驟(4)所得混合體系反復(fù)離心洗滌,得到的聚多巴胺包覆氧化石墨烯經(jīng)超聲分散在溶劑中;(6)向步驟(5)所得混合體系中加入還原劑,將氧化石墨烯還原成石墨烯;(7)將步驟(6)所得混合體系反復(fù)離心洗滌,經(jīng)超聲波處理分散在有機溶劑中,得到聚多巴胺改性石墨烯;(8)將一定量聚偏氟乙烯溶于有機溶劑,加入步驟(7)所得聚多巴胺包覆石墨烯,攪拌均勻后超聲波處理;(9)將步驟(8)所得混合體系倒入培養(yǎng)皿中,放入鼓風(fēng)烘箱內(nèi)烘干,經(jīng)熱壓成型后得到聚偏氟乙烯/聚多巴胺包覆石墨烯納米復(fù)合材料。

     

    CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

    1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

    2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

    3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

    4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

    5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

     

    線速度的計算:

    剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

    剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

    由上可知,剪切速率取決于以下因素:

    轉(zhuǎn)子的線速率

    在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
    IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

    速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

    所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

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