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    德國IKN高載量鉑碳Pt/C貴金屬催化劑高速大小型研磨分散機(jī)CMSD2000

    產(chǎn)品型號(hào): CMSD2000
    品  牌: 德國IKN
    • ≧1 臺(tái)
      ¥118900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細(xì)信息
    高載量鉑碳(Pt/C)貴金屬催化劑高速大小型研磨分散機(jī)是一種將鉑負(fù)載到活性炭上的一種載體催化劑,屬于貴金屬催化劑中的一種,可用于制藥、電子等領(lǐng)域。選擇性和活性高、壽命長,同體系可循環(huán)幾十次以上;用量小,是雷尼鎳的10%以下;可在低溫、低壓甚至常溫常壓下使反應(yīng)進(jìn)行?苫厥仗峒冊偌庸。
     

    鉑碳,又名鉑炭,鉑炭催化劑,Pt/C。屬于貴金屬催化劑,外觀是黑色粉末,分子量為195.08,分子式為Pt/C。鉑碳催化劑是將鉑負(fù)載到活性炭上的一種載體催化劑,主要用于燃料電池的氫氣氧化、甲醇氧化、甲酸氧化以及氧氣的還原等化學(xué)反應(yīng),屬于十分常見的貴金屬催化劑! 

    與傳統(tǒng)化工用鉑碳催化劑(鉑擔(dān)載量低于5%)不同,用在氫氣燃料電池的鉑碳催化劑, 鉑擔(dān)載量一般高達(dá)20% 以上, 要求鉑納米顆粒粒徑在2 ~5nm、粒徑分布窄、在炭上分散均勻,不含有害雜質(zhì),這樣催化劑就能具有較好的活性和穩(wěn)定性。但是由于2 ~5nm鉑納米顆粒的表面能非常大,很容易團(tuán)聚,因此制備鉑碳催化劑工藝難度非常大,導(dǎo)致產(chǎn)品主要依賴進(jìn)口,這也是目前催化劑規(guī);苽溲芯康碾y點(diǎn)和重點(diǎn)。  

     

    鉑炭催化劑的應(yīng)用范圍廣泛,其應(yīng)用領(lǐng)域主要表現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:

      1.有機(jī)合成:去氫反應(yīng),芳環(huán)加氫反應(yīng),過氧化氫分解,氣體純化;

      2.用于氫氣與氧氣的化合反應(yīng),從氧氣、氬氣、氮?dú)、二氧化碳、空氣、氦氣中提純氫氣?/span>

      3.用于氧氣與四氯化碳的化合反應(yīng),從氮?dú)庵刑峒冄鯕猓?/span>

      4.用于烴類化合物與氧氣的化合反應(yīng),從氧氣、氮?dú)、二氧化碳、空氣、氦氣、氬氣中提純烴類化合物;

    5.用于一氧化碳與氧氣的化合反應(yīng),從二氧化碳、氮?dú)、空氣中提純一氧化碳?br />
    鉑擔(dān)載量已達(dá)到40%~70%,單批次>200克規(guī);苽洌叫、分散度高且穩(wěn)定性好,平均粒徑約為2.8nm,長時(shí)間耐久性好, 膜電極性能優(yōu)良。


    研磨分散機(jī)工作原理:研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的gao旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被you xiao地乳化、分散和粉碎,da物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

    研磨分散機(jī)的細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī),但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。

    研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。 

    第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    er級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,te要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征dou改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出#終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

    研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

    研磨分散機(jī)

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMSD 2000/4

    300

    14,000

    41

    4

    DN25/DN15

    CMSD 2000/5

    1000

    10,500

    41

    11

    DN40/DN32

    CMSD 2000/10

    4000

    7,200

    41

    30

    DN80/DN65

    CMSD 2000/20

    10000

    4,900

    41

    45

    DN80/DN65

    CMSD 2000/30

    20000

    2,850

    41

    90

    DN150/DN125

    CMSD2000/50

    60000

    1,100

    41

    160

    DN200/DN150

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到#大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和#終產(chǎn)品的要求。
    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,bi須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
    4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)yi提供的實(shí)物為準(zhǔn)。
    5 本系列機(jī)型具有短程送料能力,無自吸功能,須選用高位進(jìn)料;物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進(jìn)料和輸送時(shí),須選用壓力或輸送泵進(jìn)料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機(jī)型相匹配。

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