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    碳納米管高速剪切研磨分散機(jī) 碳納米管研磨分散設(shè)備

    產(chǎn)品型號: CMD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細(xì)信息
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    一、碳納米管分散技術(shù)三要素 二、分散劑用量推薦 三、碳納米管水分散劑(TNWDIS)概述 四、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實(shí)例 五、研磨分散設(shè)備使用建議
    碳納米管分散技術(shù)三要素:分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備
    1、分散介質(zhì) (1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機(jī)溶劑,碳納米管易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。 (2)此處介紹的碳納米管分散技術(shù),針對中、低粘度分散介質(zhì)。
    2、分散劑 (1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。 (2)分散劑的用量,與碳納米管比表面積和共價鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。 (3)水性介質(zhì)中,推薦使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中,如醇、DMF、NMP, 推薦使用TNADIS。中等極性有機(jī)溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠,推薦使用TNEDIS 。
    3、分散設(shè)備 (1)超聲波分散設(shè)備:非常適合實(shí)驗(yàn)室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散碳納米管,用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制。 (2)研磨分散設(shè)備CMD2000系列:適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管。 (3)采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法,可以高效、穩(wěn)定地分散碳納米管
    分散劑用量推薦:
    1、碳納米管比表面積與分散劑用量 我們試劑級碳納米管分為單壁管(外徑<2nm)和多壁管。多壁管根據(jù)外徑不同,分為TNM1(外徑50nm)。隨著外徑的增加,碳納米管的比表面積減小 TNWDIS推薦用量:單壁管重量的3.5倍, TNM1 重量的1.0倍, TNM8 重量的0.2倍。其余用量參考調(diào)整
    2、碳納米管功能化與分散劑用量 功能化后的碳納米管,更容易在水中分散。 通常,碳納米管羧基功能化后,分散劑的用量可以減少50% TNWDIS推薦用量:羧基化單壁管重量的1.5-1.8倍, 羧基化TNM1 重量的0.5倍, 羧基化TNM8 重量的0.1倍
    3、對于TNADIS, TNM8 的推薦用量是重量的0.2倍。對于TNEDIS, TNM8 的推薦用量是重量的0.8倍 其余碳納米管分散劑用量可以參照調(diào)整
    碳納米管水分散劑(TNWDIS)概述
    1、不含烷基酚聚氧乙烯醚 (APEO)的非離子表面活性劑,生態(tài)環(huán)保。歐洲國家自1976年起陸續(xù)制定了法規(guī)限制生產(chǎn)和使用APEO
    2、含有芳香基團(tuán),特別適合制備碳納米管水分散液。芳香基團(tuán)與碳納米管管壁親和性好,易于吸附在管壁
    3、性能指標(biāo) 活性物質(zhì)含量:90% 水 分 含 量:10% 濁 點(diǎn):68-70℃ 碳納米管水分散劑(TNWDIS)結(jié)構(gòu)
    磨分散設(shè)備使用建議
    1. 制備1-2升碳納米管水分散液,可以選用實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī),
    2.制備10-20升碳納米管分散液,可以選用小型的研磨分散那
    4.對中等粘度的分散介質(zhì),如液態(tài)環(huán)氧樹脂,砂磨機(jī)不能帶動介質(zhì)有效運(yùn)動,可以選擇錐形磨或研磨分散機(jī) 碳納米管研磨分散機(jī) 研磨分散機(jī)工作原理:研磨分散機(jī)是由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。 研磨分散機(jī)的細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī),但它對物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。

    碳納米管研磨分散機(jī)研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。 碳納米管研磨分散機(jī)*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 碳納米管研磨分散機(jī)第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    碳納米管研磨分散機(jī)CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 


        以上是碳納米管研磨分散機(jī)的詳細(xì)信息,由上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司自行提供,如果您對碳納米管研磨分散機(jī)的信息有什么疑問,請與該公司進(jìn)行進(jìn)一步聯(lián)系,獲取碳納米管研磨分散機(jī)的更多信息。
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