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  • 納米研磨設備

    產(chǎn)品型號: CMD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥238560.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細信息
    納米研磨設備,納米研磨機,德國納米研磨設備,小型研磨設備,進口納米研磨設備是 比普通的研磨機的速度達到4-5倍以上,分散乳化均質研磨效果非常好,*高轉速可以達到14000RPM。

    研磨 研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎成小顆粒。
    分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒完全被分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。
    在做納米粉體分散或研磨時,因為粉體尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關鍵技術。


    研磨分散的效果 
    影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點
     
    2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,效果越好)
    3 膠體磨頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
    物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
    5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)
     
    線速度的計算
    剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
    剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                                g
    -轉子 間距 (m)
    由上可知,剪切速率取決于以下因素:
    轉子的線速率
    在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
    IKN -轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 
     
    速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60
     

    納米研磨設備的就餓夠

    細化作用一般來說要強于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。 

    研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

    研磨分散機應用領域:

    化學工業(yè):油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,石墨烯,碳納米管,富勒烯,凝膠,溶膠,壓裂液 催化劑 纖維  等。 
    食品工業(yè):蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品,麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬,蛋黃醬,沙拉醬,奶酪 食用菌絲,大豆蛋白粉 豆粕等

    日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
    醫(yī)藥工業(yè):各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮,膠囊,微球,口服混懸液,動物組織破壁,纖維素 等。 
    建筑工業(yè):各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 
    其它工業(yè):塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)優(yōu)質環(huán)保的生產(chǎn)需要 。

    新能源材料:石墨烯、  碳納米管 、碳纖維、   鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等

     

    設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
    電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
    電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
    研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
    研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
    研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
    進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
    研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    8000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    120000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到*大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)。
    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。
    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。


    納米研磨設備,納米研磨機,納米研磨分散機
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